使用場景2

• 半導體和液晶制造：在半導體芯片制造以及液晶基板生產(chǎn)過程中，光刻工藝需要精確控制紫外線強度，以確保芯片圖案的準確性和液晶面板的質(zhì)量。UV - 351 可用于監(jiān)測曝光設備發(fā)出的紫外線強度，保證曝光過程的穩(wěn)定性和一致性，從而提高產(chǎn)品的良品率。

• UV 固化設備：在 UV 固化領域，如印刷行業(yè)的油墨固化、涂料行業(yè)的 UV 漆固化以及電子行業(yè)的膠水固化等，需要準確測量 UV 傳送帶的照度和光量，以確保固化效果。UV - 351 能夠幫助操作人員根據(jù)測量結(jié)果調(diào)整 UV 固化設備的參數(shù)，使固化過程達到最佳效果，提高生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。

• 實驗室和研發(fā)：在科研機構(gòu)和實驗室中，進行紫外線相關的研究和實驗時，需要精確測量紫外線能量。例如，研究紫外線對材料的影響、紫外線光催化反應等實驗，UV - 351 可以為實驗提供準確的紫外線強度數(shù)據(jù)，有助于科研人員更好地理解和掌握實驗過程，推動相關領域的研究進展。

性能特點

• 多種測量模式1：具備光量檢測、照度檢測、照度峰值等多種測定模式，能滿足不同場景下對紫外線強度測量的多樣化需求，無論是需要了解某一時刻的照度值，還是一段時間內(nèi)的光量累積，都可以通過相應模式準確測量。

• 高精度測量2：測量波長范圍為 310 - 385nm，精度在 ±1.5% 以內(nèi)，重復精度也在 ±1.5% 以內(nèi)。這樣的高精度測量性能，使得 UV - 351 能夠準確地測量出紫外線的強度和能量，為生產(chǎn)過程控制和科學研究提供可靠的數(shù)據(jù)支持。

• 寬測量范圍1：照度測量范圍為 0.1 - 100.0mW/cm2，光量測量范圍為 1 - 19999mJ/cm2，可適用于從低強度到高強度的各種紫外線光源的測量，無論是實驗室中的低功率紫外線燈，還是工業(yè)生產(chǎn)中的高功率 UV 固化設備，都能準確測量其紫外線強度和光量。

• 便攜性與耐用性：儀器采用小型、輕量、薄型設計，尺寸為 79 (W)*160 (D)*70 (H) mm，重量僅 180g，方便攜帶，可輕松帶到不同的測量現(xiàn)場。同時，金屬機身設計使其具有較強的耐熱性和堅固的結(jié)構(gòu)，能夠適應各種復雜的工業(yè)環(huán)境和頻繁的使用，保證儀器的長期穩(wěn)定運行。

• 數(shù)據(jù)輸出與兼容性2：支持 RS - 232C 通信輸出，便于將測量數(shù)據(jù)傳輸?shù)接嬎銠C或其他數(shù)據(jù)處理設備中進行進一步的分析和處理。此外，提供模擬輸出功能，并且有 SD 型和 SN 型可選，能夠確保與不同設備的數(shù)據(jù)兼容性，方便用戶在不同的系統(tǒng)中使用該儀器。